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पाउडर धातु विज्ञान टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य चिकना सतह विकिरण के लिए उच्च प्रतिरोध

प्रमाणन
अच्छी गुणवत्ता हीट सिंक बिक्री के लिए
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मुझे संतुष्ट उत्पादों और बहुत विचारशील सेवा प्रदान करने के लिए धन्यवाद! हम फिर से आदेश देंगे!

—— रॉय

MoCu पैड का परीक्षण किया गया है और पहले से ही घटकों पर चढ़ा हुआ है। बस आपको बताना चाहता हूं कि वे काफी प्रभावशाली हैं। पूरी तरह से हमारे गुणवत्ता मानकों को पूरा!

—— डेविड बालाज़िक

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पाउडर धातु विज्ञान टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य चिकना सतह विकिरण के लिए उच्च प्रतिरोध

चीन पाउडर धातु विज्ञान टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य चिकना सतह विकिरण के लिए उच्च प्रतिरोध आपूर्तिकर्ता

बड़ी छवि :  पाउडर धातु विज्ञान टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य चिकना सतह विकिरण के लिए उच्च प्रतिरोध

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: JBNR
प्रमाणन: ISO9001:2008
मॉडल संख्या: डब्ल्यू टंगसेन

भुगतान & नौवहन नियमों:

न्यूनतम आदेश मात्रा: चर्चा
मूल्य: Negotiable
पैकेजिंग विवरण: अंदर फोम शीट के साथ प्लाईवुड बॉक्स
प्रसव के समय: 15-25days
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 1000 किलोग्राम / किलोग्राम
विस्तृत उत्पाद विवरण
घनत्व: 19.2g / 3 सेमी शुद्धता: डब्ल्यू> = 99.95%
रंग: ग्रेश, चमकदार, धातु टेकनीक: पाऊडर धातुकर्म
सहिष्णुता: एएसटीएम के अनुसार या आवश्यकतानुसार आवेदन: उद्योग, स्पटरिंग कोटिंग
गलनांक: 3410 नमूना: उपलब्ध
सतह: पॉलिश आकार: अनुकूलित
हाई लाइट:

टंगस्टन फिलामेंट तार

,

वाष्पीकरण के लिए टंगस्टन नौकाओं

टंगस्टन उत्पाद जीबी / टी 3875-83 मानक 99.95% मिनट पॉलिश टंगस्टन लक्ष्य डब्ल्यू डिस्क टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य कोटिंग के लिए लक्ष्य

विवरण:

1. पतली फिल्म सामग्री बनाने का एक महत्वपूर्ण तरीका स्पटरिंग-भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) का एक नया तरीका है।

लक्ष्य द्वारा बनाई गई पतली फिल्म उच्च घनत्व और अच्छी चिपकने वाली विशेषता है।

चूंकि मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीकों को व्यापक रूप से लागू किया जा रहा है, इसलिए उच्च शुद्ध धातु और मिश्र धातु के लक्ष्यों की बहुत आवश्यकता है।

उच्च पिघलने बिंदु, लोच, थर्मल विस्तार, प्रतिरोधकता और ठीक गर्मी स्थिरता, शुद्ध टंगस्टन और टंगस्टन मिश्र धातु लक्ष्यों के कम गुणांक के साथ होने के साथ अर्धचालक एकीकृत सर्किट, द्वि-आयामी प्रदर्शन, सौर फोटोवोल्टिक, एक्स रे ट्यूब और सतह इंजीनियरिंग में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।

2. यह पुराने ऊर्जा और ईंधन कोशिकाओं और फ्लिप-चिप अनुप्रयोगों के लिए बड़े क्षेत्र कोटिंग जैसे पुराने स्पटरिंग डिवीजनों के साथ-साथ नवीनतम प्रक्रिया उपकरणों के साथ भी काम कर सकता है।

विशेषताएं:

1. टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य एक्स-रे फ्लोरोसेंस (एक्सआरएफ), ग्लो डिस्चार्ज मास स्पेक्ट्रोमेट्री (जीडीएमएस), और अनिवार्य रूप से युग्मित प्लाज्मा (आईसीपी) सहित सर्वोत्तम प्रदर्शन तकनीकों को गोद लेता है;

2. एकेमेटल से टंगस्टन लक्ष्य 99.97%, घनत्व 18.8-19 ग्राम / सेमी 3, समरूप संगठन संरचना और बढ़िया अनाज तक उच्च शुद्धता प्रदान किया जाता है;

3. हमारे टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य को एएसटीएम बी 760-2007 और जीबी 3875-2006 द्वारा अनुमोदित किया गया है।

टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य के पैरामीटर्स:

सामग्री राज्य अधिकतम आयाम: चौड़ाई × लंबाई (मिमी)
डब्ल्यू 99.9 5% भूमि 300 × 600; ≤200 × 1000

टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य भी ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार उत्पादित होते हैं।

पैकेज और निरीक्षण:
हम भौतिक संरचना शीट और परीक्षा रिपोर्ट प्रदान करते हैं जिसमें घनत्व, दोष पहचान, आयाम आदि शामिल हैं।

हमारे उत्पादों को विस्तारित प्लास्टिक के साथ प्लाईवुड मामले में पैक कर रहे हैं। टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य का प्रत्येक टुकड़ा पानी के सबूत कागज से अलग होता है।

सम्पर्क करने का विवरण
Zhuzhou Jiabang Refractory Metal Co., Ltd

व्यक्ति से संपर्क करें: admin

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